Intel: postępy w litografii 10 nm

Ze strony przedstawicieli firmy Intel padło kolejne zapewnienie, że w dziedzinie litografii 10 nm są robione odczuwalne postępy, porównując kwartał do kwartału (oczekiwana jest przewaga procesorów sprawnych nad wadliwymi) a grudzień 2019 roku ma być tym szczęśliwym dla entuzjastów najnowszych technologii.

Na dziś wytwarzanie w litografii 10 nm ma być już niemal tak efektywne (mało odrzutów nadających się tylko do wyrzucenia) jak kiedyś litografia 14 nm w chwili wprowadzania do seryjnej produkcji. Oczywiście czym innym jest droga od laboratorium do linii produkcyjnej a ostateczne zapewnienie mocy produkcyjnych w wielu różnych zakładach rozsianych po całym świecie. Od tego zależy to, czy w sklepie będzie dostępność mała, ograniczona do kilku sztuk, czy w zasadzie nieograniczona.

Podobne problemy z produkcją można zaobserwować na rynku QLC NAND a wcześniej problem ten tyczył się też TLC NAND (góry śmieci w miejsce oczekiwanych produktów gotowych do sprzedaży).

Źródło: EE Times

» skomentuj na forum «