Intel: litografia 10 nm w 2019 roku

W firmie Intel zapadła decyzja, że litografia 10 nm nie jest gotowa do wprowadzania w masowej produkcji w połowie 2018 roku. Tak jak napisałem we wstępie, odsunięto jej debiut na rok 2019.

To nie jest bardzo zaskakujące, bo pierwotnie miała ona zadebiutować w 2016 roku (10 nm), czyli dwa lata po pierwszym wykorzystaniu na masową skalę litografii 14 nm (2014).

Ze słów prezesa firmy Intel wynika, że proces produkcyjny wykorzystujący litografię 10 nm wymaga dopracowania. Do tego stopnia, że nie padła obietnica, że uda się te problemy wyeliminować na początku przyszłego roku czy dopiero w jego połowie. Jak to często bywa w branży technologicznej - prezes Intela zapewnił, że litografia 10 nm zostanie wdrożona najszybciej, jak się da.

Źródło: AnandTech

» skomentuj na forum «