Notebookcheck

Samsung: litografia 3 nm w 2021

Firma Samsung zapowiedziała swoją aktywność w obszarze wytwarzania w litografii 3 nm.

Przedstawiciele firmy Samsung mają w planach na rok 2021 uruchomienie produkcji seryjnej wykorzystującej litografię 3 nm GAAFET (Gate-All-Around Field-Effect Transistors). Tak wytwarzane układy scalone mają być bardziej przestrzenne, czyli wykorzystywać efekt 3D, a przede wszystkim będą bardziej energooszczędne.

Wcześniej zapowiadano litografię 4 nm GAAFET na rok 2020 a litografia 7 nm EUV ma wejść do produkcji seryjnej jeszcze w tym roku (2019).

Źródło: OC3D

 

> laptopy testy i recenzje notebooki > Nowinki > Archiwum v2 > Archiwum 2019 01 > Samsung: litografia 3 nm w 2021
12. stycznia 2019

 

Please share our article, every link counts!
C07:52 22.11