Intel: litografia 7 nm zgodnie z planem?

Z firmy Intel płyną optymistyczne wieści odnośnie wytwarzania w litografii 7 nm. Okazuje się, że jest opracowywana przez inny zespół aniżeli litografia 10 nm i ma szansę wejść do produkcji seryjnej w niedalekiej przyszłości.

Tytułowa litografia 7 nm w wykonaniu techników firmy Intel ma wykorzystywać EUVL (extreme ultraviolet lithography) i lasery o wiązce światła 13,5 nm (rozwiązanie o wiele bardziej precyzyjne od tych wykorzystywanych na potrzeby litografii 10 nm).

Gorsza wiadomość jest taka, że litografią 7 nm ma się zajmować jedynie zakład Fab 42 w Arizonie w USA.

Źródło: AnandTech