Notebookcheck Logo

UMC: litografia 22 nm

Tajwańska firma UMC ogłosiła postęp technologiczny w dziedzinie wytwarzania elektroniki.

W zakładach firmy UMB następuje transformacja od wytwarzania opartego o litografię 28 nm na bardziej zaawansowaną 22 nm. Możliwości nowego procesu technologicznego testowano m.in. na krótkich seriach interfejsu USB 2.0. Wyszło w praniu, że to samo wytworzone w litografii 22 nm zajmuje o ok. 10% mniej powierzchni, ma mniejsze zapotrzebowanie na energię (dłuższy czas pracy na akumulatorze) i lepiej radzi sobie w kontakcie z falami radiowymi (RF).

Tytułowa technologia (22uLP ultra Low Power i 22uLL ultra Low Leakage) ma docelowo służyć m.in. wytwarzaniu sprzętu na rynki związane z siecią 5G, IoT (z Bluetooth i WiFi), SoC (system-on-chip), dekoderami TV i motoryzacją.

Źródło: DigiTimes

Powiązane artykuły

  1. UMC kończy przejęcie Mie Fujitsu Nowinka @ 26/09/2019
  2. UMC: wzrost sprzedaży o 2-4% w III kw. 2019 Nowinka @ 25/07/2019
  3. UMC: wstrzymanie pomocy w dziedzinie R&D Nowinka @ 01/11/2018
  4. UMC: współpraca z Avalanche przy MRAM Nowinka @ 08/08/2018
  5. Mie Fujitsu Semiconductor w ręce UMC Nowinka @ 29/06/2018

» skomentuj na forum «

Please share our article, every link counts!
Sylwester Cyba, 2019-12- 3 (Update: 2019-12- 3)