Chińska firma Prinano dostarcza pierwsze krajowe narzędzie do litografii nanoimprintowej

Chiński producent sprzętu, firma Prinano, dostarczyła pod adres https://www.icsmart.cn/94937/ swój pierwszy samodzielnie opracowany system litografii nanoimprintowej PL-SR do krajowego klienta zajmującego się specjalistycznymi procesami. Jest on gotowy do rzeczywistej produkcji chipów po testach po stronie klienta i sprawia, że Prinano jest dopiero drugą firmą, po Canon, która umieściła narzędzie do nanoimprintu u klienta.

Zgodnie z dostarczonymi materiałami, PL-SR obsługuje linie o szerokości poniżej dziesięciu nanometrów. Canon FPA-1200NZ2C osiąga szerokość linii około czternastu nanometrów. Jest on promowany jako umożliwiający układy klasy pięciu nanometrów, ale dokumenty ostrzegają, że wynik Prinano nie oznacza, że PL-SR może produkować zaawansowane układy logiczne w węźle pięciu nanometrów.

Atrakcyjność nanoimprintu w tym przypadku jest prosta: pozwala on uniknąć ekstremalnych źródeł światła ultrafioletowego stosowanych w komercyjnej litografii EUV, ograniczając zużycie energii i koszty sprzętu. Kompromisem jest przepustowość i elastyczność. Nanoimprint pozostaje wolniejszy niż konwencjonalna litografia optyczna i słabo nadaje się do złożonych procesów logicznych ze skomplikowanymi, zaawansowanymi wzorami.

Urządzenie Prinano modeluje wafle poprzez wciśnięcie sztywnej formy kwarcowej, wygrawerowanej nanoskalowymi obwodami, w cienką, osadzoną atramentowo warstwę rezystywną. Moduł atramentowy systemu dynamicznie mierzy objętość kropli, aby utrzymać cienką warstwę resztkową (poniżej dziesięciu nanometrów z odchyleniem mniejszym niż dwa nanometry), a następnie utwardza wzór do późniejszego wytrawiania. Narzędzie obsługuje wafle 300 mm, wyrównuje formę i wafel z dokładnymi tolerancjami i odciska każde pole sekwencyjnie ze szwami, aby pokryć cały wafel. Obsługuje również jednolite połączenia szablonów od 20 mm x 20 mm do 300 mm x 300 mm.

Opatentowany mechanizm kontroli profilu szablonu ma na celu kompensację niedopasowania krzywizny formy do wafla, umożliwiając przenoszenie cech o współczynnikach kształtu powyżej siedmiu do jednego przy jednoczesnym ograniczeniu zniekształceń, co jest ważnym praktycznym problemem dla wydajności i zmienności urządzenia. Po wykonaniu nadruku, rezystor służy jako maska do wytrawiania ostatecznych struktur.

Wstępna walidacja dotyczy zastosowań z regularnymi, powtarzalnymi wzorami: NAND Flash, mikrowyświetlacze krzemowe, fotonika krzemowa i zaawansowane opakowania. Dziedziny te czerpią korzyści z precyzyjnej podziałki i łączenia pole po polu, nie wymagając przy tym różnorodności wzorów typowej dla procesorów i układów graficznych. W materiale opisano również krajowy nanoimprint jako sposób dla chińskich producentów pamięci na zmniejszenie zależności od zagranicznych narzędzi i skuteczniejsze konkurowanie z uznanymi dostawcami.