Notebookcheck
laptopy testy i recenzje notebooki > Nowinki > Archiwum v2 > Archiwum 2019 05 > TSMC: litografia 6 nm w miejsce 7 nm

TSMC: litografia 6 nm w miejsce 7 nm

Tajwański wytwórca układów scalonych, firma TSMC, ma w planach zaoferowanie litografii 6 nm dla klientów zlecających wytwarzanie w technice 7 nm.

Tytuł może nieco zaskakiwać, bo nigdy wcześniej nie było mowy o litografii 6 nm. Przynajmniej taki przekaz nie trafił do szerokiego grona, czyli m.in. do prasy. Tak więc zaskoczeniem jest już sam fakt, że firma TSMC wspomina o litografii 6 nm a nie - jak wielokrotnie w przeszłości - o litografiach 3 i 5 nm.

Z tego, co wyżej, można wysnuć prosty wniosek, że musi chodzić o udoskonalenie procesu 7 nm (N7) a tym samym przeskok na litografię 6 nm (proces N6). Potwierdzeniem jest zaś to, o czym napisałem we wstępie - klientela ma być ta sama. Oba procesy muszą być więc kompatybilne (backwards compatibility) a przeskok między nimi powinien być w miarę szybki i bezbolesny (przestawianie maszyn to nie taka prosta sprawa, jak się wydaje). Będzie wykorzystywana ta sama specyfikacja układów scalonych, co ograniczy koszty (zamawiający układy scalone np. z USA nie będą musieli angażować swoich techników).

Proces technologiczny TSMC N6 wykorzystuje technikę znaną jako EUVL (extreme ultraviolet lithography). W przypadku TSMC N7 jest to DUV (deep ultraviolet).

Źródło: TechPowerUp

 

> laptopy testy i recenzje notebooki > Nowinki > Archiwum v2 > Archiwum 2019 05 > TSMC: litografia 6 nm w miejsce 7 nm
7. maja 2019

 

Please share our article, every link counts!
C14:14 12.05